晶圓清洗應該使用什麽樣的黄瓜视频污在线观看機？
文章導讀：晶圓（Wafer）清洗分為濕法清洗和幹法清洗兩種方式，黄瓜视频污在线观看屬於後者，主要是去除晶圓表麵肉眼看不到的表麵汙染物。晶圓的幹式清洗應該使用什麽樣的黄瓜视频污在线观看機呢？
黄瓜视频污在线观看機對晶圓清洗的流程就是先將晶圓放入黄瓜视频污在线观看機的真空反應腔體內，然後抽取真空，達到一定真空度後通入反應氣體，這些反應氣體被電離形成等離子體與晶片表麵發生化學和物理反應，生成可揮發性物質被抽走，清潔晶圓表麵並使之具有親水性。那麽晶圓清洗所用的黄瓜视频污在线观看機在選擇時有哪些該注意的地方呢？
一、腔體和托架要求
黄瓜视频污在线观看晶圓是在千級以上的無塵室中進行的，對particle的要求極高，任何超標的particle存在，都會造成晶圓不可挽回的缺陷。所以設計黄瓜视频污在线观看機的腔體首先一定要是鋁質，而不是不鏽鋼材質；擺放晶圓的托架滑動部分，要盡量采用不容易產生粉塵和被等離子腐蝕的材料；電極和托架方便拆卸，便於日常維護。
二、電極間距和層數，以及氣路分布要求
黄瓜视频污在线观看機反應腔體內的電極間距和層數，以及氣路分布，對於晶圓處理的均勻性都重大的影響，這些指標都需要不斷試驗來優化。
三、電極板溫度要求
黄瓜视频污在线观看晶圓的過程中，會產生一定的熱量累積，處於工藝的需要，維持電極板的溫度在一定範圍是必要的，所以通常會給黄瓜视频污在线观看機的電極加上水冷。
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四、擺放小技巧
多層電極的黄瓜视频污在线观看機產能比較高，可以根據需要每一層托架上擺放多片晶圓，比較適合於半導體分立器件、電力電子元器件專用4寸及6寸晶圓的光刻底膜去除等。
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