半導體封裝所用黄瓜视频污在线观看設備是由這些組成
文章導讀：在昨天的文章中，黄瓜视频下载APP视频向大家介紹了黄瓜视频污在线观看設備在半導體封裝領域內的基礎技術原理，通過了解，您是否也覺得等離子處理係統在半導體封裝領域內是不可或缺的呢？那麽一台完整的黄瓜视频污在线观看設備或者說黄瓜视频污在线观看機，是什麽樣的？又由哪些部分組成的呢？
行業內通常按等離子體發生機製，將等離子處理係統分為常壓大氣黄瓜视频污在线观看設備和低壓真空黄瓜视频污在线观看設備兩種，而半導體封裝領域內所用的等離子處理設備則屬於後一種。那麽一台完整的黄瓜视频污在线观看設備或者說黄瓜视频污在线观看機，是什麽樣的？又由哪些部分組成的呢？其實，半導體封裝所用黄瓜视频污在线观看設備主要是由真空腔體、等離子發生器、真空泵、真空計、流量計、反應氣體和電氣控製、各配件這幾部分構成。其中包含了等離子發生係統、排氣係統、溫控係統等八個主要控製係統。
1、真空腔體
真空黄瓜视频污在线观看設備的真空腔體，即像進行整個反應過程的“容器”，可放置不同電極結構的放電電極，產生不同狀態、特性和密度的等離子體。
2、等離子發生器
等離子發生器主要由電源和匹配器組成，用於提供反應氣體放電的能量來源，維持黄瓜视频污在线观看機的放電狀態，其發生頻率有區分。
3、真空泵
真空泵主要用於抽取真空和保證腔體維持一定的真空度，並且能夠將未電離的氣體和反應副產物抽出。根據實際處理的需要，可搭配單級泵或泵組。
4、真空計
真空等離子處理係統的真空計主要用於監測真空腔體的真空度。
5、流量計
等離子處理設備的流量計主要用於測量反應氣體的流量。
6、反應氣體
不同的反應氣體電離之後會產生不同特性的等離子體，常用的工藝氣體有Ar、H2、N2、O2、CF4等，根據處理需要可使用單一氣體或者兩種以上混合氣體。
7、電氣控製
真空等離子處理設備的電氣控製主要包含軟件，為保證設備正常運行、監測、數據采集和工藝參數設定等。
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