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      半導體封裝行業用到的黄瓜视频污在线观看設備有哪些種類?

      返回列表 來源:黄瓜视频下载APP视频 瀏覽: 發布日期:2018-11-14 10:36【
      文章導讀:半導體封裝行業由於其特殊性,比之於常規的電子產品對等離子設備的等離子均勻性、Particle數量、UPH等指標要求更高,一般要求在低壓(真空)狀態下進行黄瓜视频污在线观看。
      半導體封裝行業用到的黄瓜视频污在线观看設備一般可按如下方式分類:

      1、按黄瓜视频污在线观看設備的運行方式:分為獨立式黄瓜视频污在线观看設備和在線式黄瓜视频污在线观看設備
      (1)獨立式(又叫離線式、單體式、批量式等)黄瓜视频污在线观看設備主要結構包括:真空腔體(包含電極;又叫反應腔、反應倉、反應室等)、設備外殼、電氣控製係統、氣路係統、等離子發生器(包括電源和匹配器)和真空係統。

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      2)在線式(又叫連續式、不間斷式等)黄瓜视频污在线观看設備主要結構包括:上下料推送機構、上下料放置平台、上下料提升係統、上下料傳輸係統、上下料撥料機構、真空腔體、設備主體框架、電氣控製係統、氣路係統、等離子發生器(包括電源和匹配器)和真空係統。
       

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      在線式黄瓜视频污在线观看設備是在獨立式的基礎上,為滿足對表麵處理均勻性、一致性品質要求更高,以提高自動化程度,減少人工參與等需要設計而成。

       

      2、按等離子產生的激勵方式分為:電容耦合(CCP)、感應耦合(ICP)和電子回旋共振(ECR)等

       

      3、按等離子發生器的工作頻率來分:中頻(又叫低頻、超聲40〜100KHz),高頻(又叫射頻13.56MHz),微波(2.45GHz)

       

      發頻率與等離子自偏壓的關係
       



       

      激發頻率與等離子密度的關係
       

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      不同頻率激發的等離子體特性和能量是不一樣的,對於側重物理清洗的產品,用中頻黄瓜视频污在线观看設備比較合適;側重化學清洗的產品,采用微波黄瓜视频污在线观看設備;化學物理反應兼顧的,建議使用射頻黄瓜视频污在线观看設備。當然,等離子激發頻率隻是等離子產生的核心因素之一,黄瓜视频污在线观看設備的電極結構、工藝氣體、真空度、處理時間等等,同樣是影響清洗效果的關鍵。

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        2)不需要高純水和化學藥劑等,同時不需要後續烘幹工藝
        3)設備維護簡單,隻需進行簡單的清洗和更換
        4)沿噴嘴線性均衡的超聲波使得工件橫向清洗性能保持一致
        5)非接觸式的清洗方式避免損壞工
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        ‌工藝可控‌:通過調整工作氣體種類、壓力、功率等參數,可精確控製清洗過程‌。


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